重慶郵電大學2017年碩士研究生入學
《光電子技術及應用（810）》考試大綱

考試內容和要求
（一）輻射度學與光度學
輻射度學基本概念與光度學參數。
（二）激光原理與技術
（1）光與物質相互作用理論，激光產生條件與基本結構；
（2）激光器基本原理；
（3）激光技術：脈沖技術、選模技術、鎖模技術、穩頻技術、倍頻技術等。
（4）高斯光束：特性，高斯光束的準直、聚焦與模式匹配，用q參數、ABCD定則分析高斯光束。
（三）光傳輸理論與技術
（1）平面介質光波導理論（射線分析與波動分析）；
（2）光纖傳播理論與基本特性；
（3）光在電光、聲光以及磁光晶體中的傳播。
（四）光調制技術
（1）光輻射調制方法；
（2）電光調制技術：強度調制(縱向與橫向)、位相調制(縱向與橫向)、電光偏轉技術
（3）聲光調制技術：拉曼奈斯衍射、布拉格衍射，聲光調制原理，聲光調制器衍射效率分析；
（4）磁光調制技術：旋光效應與磁光效應，法拉第效應，磁光調制器與光隔離器。
（五）光電探測技術
（1）光電探測器參數、光電探測方式；
（2）光電探測的物理效應；
（3）常見光電探測器的基本結構與參數。
（六）光電成像與顯示技術
（1）光電成像原理，CCD成像技術；
（2）液晶顯示技術、等離子體顯示技術、LED顯示技術、電致與場致發光顯示技術
參考書目
《光電子技術基礎（第二版）》，朱京平著，科學出版社，2009。