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《材料分析測試技術》考試大綱
適用專業名稱：材料科學與工程
科目代碼及名稱 考試大綱
5 材料分析測試技術 一、 考試目的與要求
測試考生對 X 射線衍射分析技術、掃描電子顯微鏡、電子探針、透射電鏡等分析技術的掌握程度，使學生掌握材料研究的基本方法，學會進行材料微
觀組織結構分析和物理性能分析的常用儀器設備的原理及使用方法，使學生具備分析研究材料的組織結構所必須的基礎理論、基礎知識與基本技能。
二、 試卷結構（滿分 100 分）
內容比例：
X 射線衍射分析 約 35 分
透射電鏡分析 約 20 分
掃描電鏡分析 約 20 分
電子探針分析 約 25 分
題型比例：
客觀題 約30分
1．填空題（選擇或判斷） 約15分
2．名詞解釋 約15分
主觀題 約70分
1. 簡答題 約20分
2. 證明題 約20分
3. 綜合分析題 約30分
三、考試內容與要求
（一）X 射線衍射分析
考試內容
X 射線物理基礎、X 射線衍射方向、X 射線衍射強度、多晶體分析方法、 X 射線物相分析及點陣參數精確測定
考試要求
1. 掌握 X 射線的本質、X 射線譜的分類及特征譜的產生機理；
2. 掌握 X 射線與物質的相互作用；
3. 掌握布拉格方程的推導及應用；
4.理解結構因子的物理意義，掌握三種常見點陣消光規律，掌握 X 射線衍射強度公式；
5、理解各種衍射分析方法，掌握 X 射線衍射儀的參數設置；
6、掌握物相定性分析的原理、方法與步驟；
7、掌握 PDF 卡片的組成及索引方法；
8、掌握物相定量分析的原理及方法；
9、掌握立方晶系物質點陣常數的精確測定。
（二）電子光學基礎及透射電子分析
考試內容
電子波與電磁透鏡、電磁透鏡的像差與分辨本領、電磁透鏡的景深和焦長，電子衍射原理、電子顯微鏡中的電子衍射、單晶體電子衍射花樣標定
以及復雜電子衍射花樣。透射電子顯微鏡的結構與成像原理、主要部件的結構與工作原理；透射電子顯微鏡分辨本領和放大倍數的測定，薄膜樣品的制備；
衍襯成像原理；消光距離
考試要求
1. 掌握電子透鏡及其景深與焦長、電磁透鏡的像差與分辨本領；
2.理解透射電鏡的結構，了解透射電鏡的應用樣品的制備方法并能制備電鏡樣品；
3.掌握電子衍射原理和衍稱成像原理；
4.能夠分析電子衍射花樣。
（三）掃描電子顯微鏡
考試內容
電子束與固體樣品作用、掃描電子顯微鏡的構造和工作原理、掃描電子顯微鏡的主要性能、表面形貌襯度原理及其應用、原子序數襯度原理及其
應用
考試要求
1. 理解掃描電子顯微鏡的構造和工作原理
2. 了解電子束與固體樣品作用時產生的信號
3. 掌握掃描電子顯微鏡的主要性能、表面形貌襯度原理及其應用
4. 應用 SEM 圖像分析物質
（四）電子探針顯微分析
考試內容
電子探針儀的結構與工作原理；電子探針儀的分析方法及其應用
考試要求
1. 理解電子探針分析構造
2. 了解電子探針分析應用
3. 掌握電子探針分析方法及微區成分分析技術
4. 應用微區分析技術分析物質成分和結構
參考書目：
《材料分析方法》（第三版），周玉主編，哈爾濱工業大學出版社，2011 年
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