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福 州 大 學
2017 年博士研究生入學考試專業課課程（考試）大綱
一、考試科目名稱: 材料科學與工程綜合
二、招生學院和專業：材料科學與工程學院
材料物理與化學、材料學、材料加工工程
基本內容:
本科目分為三個模塊：1、材料結構；2、波譜分析；3、固體物理 B。學生可選擇任一模塊
考試。
1、材料結構模塊
X 射線衍射分析
物相衍射分析與點陣參數的精確測定：定性、定量分析原理、方法與步驟，點陣參數的精確
測定；X 射線衍射譜的線形分析； Rietveld 精修與從頭晶體結構測定；Rietveld 方法的相定量
分析（多相全譜擬合）；宏觀應力的 X 射線衍射測定與分析；織構與極圖的測定；薄膜和一維
材料的X射線衍射分析；小角 X射線散射(SAXS)和小角衍射；擴展X 射線吸收精細結構(EXAFS)
譜分析。
TEM 電子衍射
倒易點陣，倒易矢量及其基本性質；正點陣與倒點陣的指數互換；晶帶定律與 0 層倒易截
面；Bragg 定律及其幾何圖解；偏離參量；倒易點陣與電子衍射圖的關系；電子衍射的基本公
式；單晶、多晶衍射花樣形成原理；點陣結構因數的計算；系統消光；倒易點陣的類型；單晶
與多晶電子衍射圖的分析及標定；晶體的復雜衍射花樣分析；兩相取向關系的測定與分析。
TEM 成像
TEM 中成像的像襯度類型與原理（質厚襯度、衍射襯度、Z 襯度及其技術、相位襯度）；
晶體薄膜的衍射襯度強度理論；缺陷（位錯、層錯、第二相等）襯度的定性與定量分析；材料
的界面及其分析方法：兩相界面襯度，包括應變襯度、錯配位錯、位移條紋、波紋圖；弱束暗
場成像技術；高分辨電子顯微學相位襯度像的成像原理、成像過程、顯微圖像的類型和應用。
SEM 與 EPMA 分析
電子束與樣品相互作用產生的主要物理信號、特征及應用；成像原理、二次電子與背散射
電子像襯度與分辨率；電子背散射衍射與應用；X 射線顯微成分分析技術與方法。
2、波譜分析模塊
紫外光譜
紫外-可見吸收光譜的基本原理；影響紫外-可見吸收光譜的主要因素；光吸收定律；紫外-
可見吸收光譜在定性和定量中的應用；各類有機化合物的特征吸收；紫外-可見光譜的解析及應
用。
紅外光譜
紅外吸收光譜產生的條件；影響峰位的主要因素；紅外吸收光譜的重要區域；各類有機化
合物的紅外特征吸收；紅外光譜的解析和應用。
核磁共振光譜
核自旋和核磁共振現象；化學位移的產生和影響化學位移的因素；譜圖中積分曲線與氫數
目；飽和和馳豫；自旋偶合與裂分；偶合常數；偶合系統的核磁特征譜圖；常見有機化合物氫
譜的解析。
質譜
質譜的基本方程；質譜表示法；質譜儀的構造；質譜中離子類型；離子的斷裂機理；離子
源的種類；質譜中分子離子峰和碎片離子峰；常見的裂解方式；各類有機化合物的質譜特征及
解析。
有機化合物的四譜綜合解析
3、固體物理 B 模塊
金屬電子論。費米統計和電子熱容；功函數和接觸電勢；分布函數與玻爾茲曼方程；各項
同性散射和弛豫時間；晶格散射與電導；金屬-絕緣體轉變。
半導體電子論。常見半導體的晶體結構和基本能帶結構；半導體中的電子狀態；半導體中
的雜質及雜質能級；半導體中載流子的統計分布；半導體的電導；非平衡載流子；PN 結。
參考書目 (包括作者、書目、出版社、出版時間、版次)：
1、材料結構模塊
(1) 周玉主編，材料分析方法，機械工業出版社，2011，第 3 版.
(2) 黃孝瑛. 材料微觀結構的電子顯微學分析. 冶金工業出版社，2008，第 1 版.
(3) 晉勇, 孫小松, 薛屺. X 射線衍射分析技術. 北京： 國防工業出版社，2008，第 1 版.
(4) 姜傳海, 楊傳錚. 材料射線衍射和散射分析. 高等教育出版社, 2010，第 1 版.
2、波譜分析模塊
(1). 孟令芝，龔淑玲，何永炳. 有機波譜分析. 武漢大學出版社, 2009 年, 第 3 版.
(2). 林賢福. 現代波譜分析方法. 華東理工大學出版社, 2009 年, 第 1 版.
(3). 鄧芹英, 劉嵐, 鄧慧敏. 波譜分析教程. 科學出版社, 2010 年, 第 2 版.
(4). 張華，彭勤紀，李亞明等. 現代有機波譜分析, 化學工業出版社, 2005, 第 1 版.
3、固體物理 B 模塊
(1) 黃昆 原著，韓汝琦 改編.《固體物理學》. 高等教育出版社，1988 年 10 月出版（2013 年 12 月重?。?
(2) 劉恩科, 朱秉升, 羅晉生 編著. 半導體物理 （第七版）. 電子工業出版社，2011 年.
說明：考試題型可分名詞解釋、填空題、選擇題、計算題、簡答題、論述題等。
編制人簽名： 博士點負責人簽名： 院長審核簽名：
年 月 日
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