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1 研究生入學考試復習大綱 “半導體物理與器件物理”(801) 一、 總體要求 “半導體物理與器件物理”(801)由半導體物理、半導體器件物理二部分組成,半導 體物理占 60%(90 分)、器件物理占 40%(60 分)。 “半導體物理”要求學生熟練掌握半導體的相關基礎理論,了解半導體性質以及受外 界因素的影響及其變化規律。重點掌握半導體中的電子狀態和帶、半導體中的雜質和缺 陷能級、半導體中載流子的統計分布、半導體的導電性、半導體中的非平衡載流子等相 關知識、基本概念及相關理論,掌握半導體中載流子濃度計算、電阻(導)率計算以及運 用連續性方程解決載流子濃度隨時間或位置的變化及其分布規律等。 “器件物理”要求學生掌握 MOSFET 器件物理的基本理論和基本的分析方法,使學 生具備基本的器件分析、求解、應用能力。要求掌握 MOS 基本結構和電容電壓特性; MESFET 器件的基本工作原理;MOSFET 器件的頻率特性;MOSFET 器件中的非理想 效應;MOSFET 器件按比例縮小理論;閾值電壓的影響因素;MOSFET 的擊穿特性; 掌握器件特性的基本分析方法。 “半導體物理與器件物理”(801)研究生入學考試是所學知識的總結性考試,考試 水平應達到或超過本科專業相應的課程要求水平。 二、 各部分復習要點 ●“半導體物理”部分各章復習要點 (一)半導體中的電子狀態 2 1.復習內容 半導體晶體結構與化學鍵性質,半導體中電子狀態與能帶,電子的運動與有效質 量,空穴,回旋共振,元素半導體和典型化合物半導體的能帶結構。 2.具體要求 半導體中的電子狀態和能帶 半導體中電子的運動和有效質量 本征半導體的導電機構 空穴的概念 回旋共振及其實驗結果 Si、Ge 和典型化合物半導體的能帶結構 (二)半導體中雜志和缺陷能級 1.復習內容 元素半導體中的雜質能級,化合物半導體中的雜質能級、位錯和缺陷能級。 2.具體要求 Si 和 Ge 晶體中的雜質能級 雜質的補償作用 深能級雜質 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體中的雜質能級 等電子雜質與等電子陷阱 半導體中的缺陷與位錯能級 (三)半導體中載流子的統計分布 1.復習內容 3 狀態密度,Fermi 能級,載流子統計分布,本征和雜質半導體的載流子濃度,補 償半導體的載流子濃度,簡并半導體 2.具體要求 狀態密度的定義與計算 費米能級和載流子的統計分布 本征半導體的載流子濃度 雜質半導體的載流子濃度 雜質補償半導體的載流子濃度 簡并半導體及其載流子濃度、簡并化條件、簡并半導體的特點與雜質帶導電 載流子濃度的分析計算方法及其影響載流子濃度的因素 (四)半導體的導電性 1.復習內容 載流子的漂移運動,遷移率,載流子的散射,遷移率與雜質濃度和溫度的關系, 電阻率與雜質濃度和溫度的關系,強場效應與熱載流子 2.具體要求 載流子漂移運動 遷移率 載流子散射 半導體中的各種散射機制 遷移率與雜質濃度和溫度的關系 電阻率及其與雜質濃度和溫度的關系 強電場下的效應 4 高場疇區與 Gunn 效應; (五)非平衡載流子 1.復習內容 非平衡載流子的產生與復合,非平衡載流子壽命,準費米能級,復合理論,陷阱效 應,非平衡載流子載流子的擴散與漂移,愛因斯坦關系,連續性方程。 2.具體要求 非平衡載流子的注入與復合 準費米能級 非平衡載流子的壽命 復合理論 陷阱效應 載流子的擴散運動 載流子的漂移運動 Einstein 關系 連續性方程的建立及其應用 ●“器件物理”部分各章復習要點 (一)金屬-氧化物-半導體場效應結構物理基礎 1.復習內容 MOS 結構的物理性質,能帶結構與空間電荷區,平帶電壓與閾值電壓,電容電壓 特性 2.具體要求 MOS 結構的物理性質 5 n 型和 p 型襯底 MOS 電容器的能帶結構 耗盡層厚度的計算 功函數的基本概念以及金屬-半導體功函數差的計算方法 平帶電壓的定義與求解;閾值電壓的影響因素; MOS 電容的定義,理想的 C-V 特性;影響 C-V 特性的主要因素 (二)MOSFET 基本工作原理 1.復習內容 MOSFET 基本結構,MOSFET 電流電壓關系,襯底偏置效應。MOSFET 的頻率 特性。閂鎖現象 2.具體要求 MOSFET 電流電壓關系的定性分析,漏極電流與柵壓之間的關系; 襯偏效應的概念及影響 小信號等效電路的概念與分析方法 MOSFET 器件頻率特性的影響因素 CMOS 基本技術及閂鎖現象 (三)MOSFET 器件的深入概念 1.復習內容 MOSFET 中的非理想效應;MOSFET 的按比例縮小理論;小尺寸器件的閾值電 壓;MOSFET 器件的擊穿特性 2.具體要求 理解實際器件與理想特性之間的偏差及其原因 器件按比例縮小的基本方法動態電路方程及其求解 6 短溝道效應與窄溝道效應對 MOSFET 器件閾值電壓的影響 MOSFET 器件的各種擊穿模式,擊穿電壓的影響因素 三、 試卷結構與考試方式 1、題型結構:名詞解釋、簡答題、問答題、計算題、判斷題、繪圖題等。試卷滿 分為 150 分。 2、考試方式:閉卷,考試必須按照規定攜帶不具備編程和存儲功能的函數計算器。 3、考試時間:180 分鐘。 四、 參考書目 1、《半導體物理學》(第七版),劉恩科、朱秉升、羅晉生等著,電子工業出版社 2011 年 3 月。 2、《半導體物理與器件》(第 4 版)趙毅強等譯 電子工業出版社 2013 年。
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