科目代碼： 3016

科目名稱： 材料微觀分析

適用專業：材料科學與工程

參考書目：《材料現代分析技術》，朱和國，國防工業出版社，2012

考試時間：3小時

考試方式：筆試

總　　分：100分

考試范圍：

（一）金屬 X 射線學

1、X射線的物理基礎：X射線的本質；X射線譜 ；X射線與物質的相互作用及X射線的防護

2、X射線的幾何理論：晶體結構及其表示法；勞厄方程與布拉格方程；倒易點陣與厄瓦爾德圖解；倒易點陣與衍射之間的關系。

3、晶體分析方法：德拜-謝樂法（理解層次）；衍射儀法；

4、X射線衍射強度理論：單個電子、原子對X射線的散射；一個晶胞、小晶體對X射線的散射；多晶衍射的積分強度（理解層次）。

5、相分析：定性分析；定量分析。

（二）金屬電子顯微分析

1、電子光學基礎及透射電子顯微鏡：光學顯微鏡；電子波長、靜電透鏡及電磁透鏡；像差、分辨率、景深及焦長；透射電鏡的構造；透射電鏡的分辨本領和放大倍數。

2、透射電鏡的樣品制備：復型技術；薄膜樣品、粉末樣品及其他樣品制備；

3、電子衍射：布拉格方程；倒易點陣與厄瓦爾德球；結構因子；晶帶定理；電子衍射基本公式及相機常數；透射電鏡中的電子衍射及選區成象，選區電子衍射；多晶及單晶電子衍射花樣標定；

4、晶體的衍襯分析：電子衍襯原理，明場和暗場成象；電子波在晶體之中的散射；完整晶體及缺陷晶體運動學理論（理解層次）；動力學理論（了解層次）

5、掃描電鏡：掃描電鏡的原理及構造，應用；表面形貌襯度與原子序數襯度來源。